14,99 zł
☆☆☆☆☆
★★★★★
(0)
Maska Nawilżająca Elseve Hyaluron Plump to rewolucyjne rozwiązanie dla osób borykających się z problemem odwodnionych włosów. Dzięki zaawansowanej formule opartej na kwasie hialuronowym, maska skutecznie wypełnia włosy nawilżeniem, przywracając im sprężystość i zdrowy wygląd.
Innowacyjna technologia zastosowana w masce pozwala na natychmiastowe otulenie włosów, co prowadzi do znaczącej poprawy ich kondycji. Włosy stają się aż 10 razy bardziej nawilżone, zyskując jednocześnie miękkość i łatwość rozczesywania. Co ważne, formuła maski działa bez obciążania włosów, zapewniając im lekkość i naturalny wygląd.
Składniki, które pokochasz:
- Kwas hialuronowy - naturalnie występująca w ciele molekuła, zdolna do wiązania wody w ilości 1000 razy większej niż sama waży, co gwarantuje intensywne i długotrwałe nawilżenie włosów
- Gliceryna - składnik o silnych właściwościach nawilżających, który pomaga zatrzymać wodę we włosach
- Kompleks kondycjonujący - mieszanka składników, która poprawia miękkość i podatność włosów na układanie
Przeznaczenie:
Maska Nawilżająca Elseve Hyaluron Plump jest idealna dla osób z odwodnionymi włosami, które potrzebują intensywnego nawilżenia i regeneracji. Produkt sprawdzi się zarówno u kobiet, jak i mężczyzn, niezależnie od typu włosów.
Sposób użycia:
Po umyciu włosów szamponem Hyaluron Plump, nałóż maskę na wilgotne włosy, rozprowadzając ją na długościach i końcówkach. Pozostaw na 2-3 minuty, a następnie dokładnie spłucz. Dla osiągnięcia najlepszych efektów, stosuj maskę regularnie jako część pełnej rutyny pielęgnacyjnej Elseve Hyaluron Plump.
Składniki:
Aqua, Water, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Distarch Phosphate, Quaternium-87, Dimethicone, CI 60730, Ext Violet 2, Lactic Acid, Sodium Hyaluronate, Phenoxyethanol, Steareth-6, Acetic Acid, PEG-150, Decyl Alcohol, SMDI Copolymer, PEG-100 Stearate, Behentrimonium Chloride, Trideceth-10, Trideceth-3, Chlorhexidine Digluconate, Propylene Glycol, Amodimethicone, Isopropyl Alcohol, Parfum, Fragrance.
@CUSTOMER_NAME@
@COMMENT_TITLE@
@COMMENT_COMMENT@